清溢光电 清溢光电发行价格为8.78元/股 清溢光电发行人技术水平及特点

青翼光电认购于11月11日进行，认购代码为787138，发行价格为8.78元/股。可以关注该股票的认购信息，介绍发行人的技术水平和特点。

发行人的核心制造流程包括光刻、清洗、显影、蚀刻、检验、修复、贴膜等。其技术水平主要体现在以下几个方面:平面设计加工、光刻工艺技术、开发蚀刻工艺技术、测量检验分析技术、缺陷控制与修复、洁净室建设等。所有发行人都处于国内领先水平。。

(1)计算机辅助制造图形处理技术

出版商自主开发了LCD自动转换软件，解决了文字转换、多义线转换、多义线聚合、自动分层、短路/开路检测等问题。发行人还推出了各种专业的图形处理软件，并根据口罩行业的特点自主开发定制，实现了客户产品参数的自动检测、处理和优化，大大提高了图形设计的效率和质量。经过多年的自行编程和二次开发，发行人已经完全掌握了掩膜版的图形处理技术和要求，提高了生产效率，减少了人工识别错误。

(2)光刻技术

光刻工艺是决定掩膜质量最重要的一步，光刻机是光刻技术的集中载体。经过20多年的发展，出版商不断提高对光刻机在日常生产和使用中的使用的认识，不断优化和适应工艺，掌握了许多提高光刻机工艺稳定性的专有技术，尤其是偏置校正、对角线校正、MURA控制、PPO、坐标变形控制、平面度补偿、二次对准、精密坐标校正等。发行人已成功将这些技术应用于各种产品制造技术，如3.5-5.5代触摸面板大尺寸掩膜版、5-8.5代非晶硅薄膜晶体管液晶显示屏掩膜版、4.5-6代AMOLED/LTPS掩膜版等。，并可根据不同客户的订单要求定制配置。经过多年的技术沉淀，出版商仍然很少使用海德堡平版印刷术

TFT CF和4.5-8.5代阵列的掩膜制造商。

(3)发展蚀刻技术

CD精度是掩模图案中特征线的宽度与设计值之间的偏差。开发/蚀刻技术能力主要体现在CD精度的控制水平上，CD精度是掩膜制造商的核心技术之一。经过多年的发展，发行方已经完全掌握了显影/蚀刻的工艺特点和技术原理，摸索出了工艺参数和调试公式。

发行人掌握了显影蚀刻的关键技术，包括基于光刻的CD精度控制和显影蚀刻。经测试验证，发行人CD控制精度在800X 960mm范围内达到80nm的控制水平，各项指标均等于或接近国际先进水平。

(4)光盘测量技术:

临界尺寸(CD)测量是指在掩模生产过程中对设计图特征尺寸的测量。发行方主营的平板显示器用CD的测量精度要求重复性和再现性小于10纳米。

根据掩模生产的技术特点，发行方成功开发了2套(套)第6代和第8代微图形尺寸测量机(CD测量机)。经过评估和验证，两套设备的测量精度要求重复性和再现性小于10纳米，满足生产技术要求。该设备的关键技术，如机械、电器、光学、软件、测量算法等，都是发行人自己的技术。

(5)总磷测量技术

目前世界上最好的掩模板TP测量设备是瑞典Mycronic公司生产的MMS系列设备。自该设备推出以来，发行人成功消化吸收了这项技术。发卡行可以定期修正并保证MMS作为全公司二维坐标的测量基准，其他所有光刻机的二维坐标都可以与该机匹配，从而保证发卡行两台高精度光刻机的位置和对准精度提高到300nm以下。