光刻胶 日本垄断的光刻胶 国内厂商找到了突破口

昨晚，宁波南大光电宣布，宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户使用认证。

南大光电表示，“ArF光刻胶产品的开发与产业化”是宁波南大光电在国家“02专项”下承担的重点研究项目。该产品认证的通过，标志着“ArF光刻胶产品开发与产业化”项目的关键突破，成为国内首个通过产品验证的ArF光刻胶，为项目目标的全面完成奠定了坚实的基础。

他们指出，认证评估报告显示“本次认证选择客户50纳米闪存产品中的控制栅进行验证，宁波南大光电的ArF光刻胶产品性能符合工艺规范要求，成品率结果达到标准。”

南大光电在通过客户认证向公司谈及这种光刻胶的价值时表示，ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。广泛用于高端芯片制造。

ArF光刻胶的市场前景好于预期。随着国内集成电路产业的快速发展，自主创新和国产化的加速，以及先进工艺技术的应用，光刻胶的用量将会大大增加。通过客户认证产业化意义重大。本次验证使用的50纳米闪存技术平台，

特征尺寸方面，线工艺可以满足45nm-90nm光刻的要求，孔工艺可以满足65nm-90nm光刻的要求。该工艺平台的光刻胶在行业内具有代表性。

南大光电“02专项”未来综述

2018年，南大光电发布了国家“02专项”ArF光刻胶产品开发及产业化可行性研究报告。

报道称，江苏南大光电材料有限公司成立于2000年12月，注册资金27346.88万元，是全球MO源的主要供应商之一。经过多年的技术积累和创新，南大光电拥有了具有完全自主知识产权的MO源独特生产技术。

作为全球钼源的主要供应商，其产品在满足国内需求的同时，还出口到日本、台湾省、韩国、欧洲和美国。我公司已通过ISO9001质量认证体系、ISO14001环境认证体系和OHSAS18001职业健康体系认证。公司于2012年8月7日在深圳证券交易所创业板成功上市。

公司目前拥有MO源、电子特种气体、光刻胶三大业务板块，力争成为世界一流的MO源供应商、国内领先的电子特种气体供应商、国内技术最先进的光刻胶供应商，力争在五到十年内发展成为国际优秀的电子材料制造商。

公司计划投资6.5557亿元实施“193纳米光刻胶材料开发与产业化”项目。项目主体宁波南大光电材料有限公司是该公司的全资子公司。据他们说，193nm光刻胶和MO源都是高纯度的电子材料，在生产工艺、分析测试等方面都很相似。公司现有的许多生产技术和管理经验可以直接应用于本项目。经过多年的技术积累和创新，南大光电拥有了具有完全自主知识产权的MO源独特生产技术。产品在合成、纯化、分析、包装、储运和安全操作方面达到国际先进水平。同时，为了该项目的发展，南大光电已经完成了一个1500平方米的R&D中心的建设。

根据计划，公司将通过三年的建设、生产和销售，实现年产25吨193纳米光刻胶产品的生产规模。产品符合集成电路行业的要求和标准。同时建成先进的光刻胶分析测试中心和高分辨率光刻胶研发中心，为公司新型高端光刻胶产品的研发和产业化提供技术支持。目前，本项目的主要建设内容是生产车间、分析测试中心、R&D中心、仓库、水电、道路等配套设施的建设。

他们在报告中指出，作为ic制造最关键的基础材料之一，高档光刻胶材料几乎完全依赖进口。这种情况严重制约了我国集成电路产业的自主发展。更何况中国集成电路行业使用的高档光刻胶80%以上都是从日本进口的。这种垄断依赖模式使得中国集成电路产业在发生严重的自然灾害、政治冲突、商业冲突或军事冲突时受到严重的负面影响。

从产品性能分析，与大硅片和可以长期保存的先进制造设备相比，高级光刻胶的保质期非常短。一旦遭遇上述自然灾害或冲突，我国IC行业势必面临芯片企业短时间停产的严峻形势。因此，尽快实现高档光刻胶材料的完全国产化和产业化，具有重要的战略意义和经济价值。

但南大光电也强调，ArF光刻胶产品的配方包括成膜树脂、光敏剂、添加剂和溶剂。各组成部分的功和能能否有效结合，关系到光刻胶配方的成败，是调制光刻胶配方的最大挑战和难点，也是光刻胶公司技术能力的基本体现。世界上只有几家光刻胶公司可以调制产品级ArF光刻胶的配方。

针对这种情况，一方面可以从美国、日本等拥有先进光刻胶技术的国家引进相关领域的专家。另一方面，我们应该在内部寻求“智慧”，联合国的光刻胶研究单位应该积极培养国内的光刻胶R&D人才。通过内部和外部人才的结合，自主开发国产ArF光刻胶产品。

同时，在这个团队的基础上，我们可以建立自己的本地光刻胶人才团队，为我公司先进光刻胶产品的升级和中国集成电路行业的后续发展奠定基础。

日本绝对领先光刻胶市场

据智研咨询统计，2019年全球光刻胶市场预计近90亿美元，CAGR自2010年以来约占5.4%。预计未来三年市场将以年均5%的速度增长，到2022年全球光刻胶市场将突破100亿美元。

从下图可以知道，低端g/i线占半导体光刻胶市场总量的31%，而高端KrF和ArF-i光刻胶的市场份额最大，达到45%，基本被日本企业垄断，所以日本在半导体领域的控制能力很大。

以ArF光刻胶产品为代表的先进光刻胶以及该工艺的主要技术和专利被国外企业和研究部门所掌握，如日本的信越化学、和成橡胶、东京华英、住友化学、富士胶片和美国的陶氏化学，其中日本企业占有很高的份额。

在KrF光刻胶方面，日本也占主导地位，韩国企业5%的市场份额，美国企业11%的市场份额。

南大光电表示，该项目已被列为中国“超大规模集成电路制造设备及成套技术”的核心部分，得到科技部的大力支持。ArF光刻胶作为提升国家综合实力的战略性产业，是我国集成电路产业的关键原材料，与国民经济和社会发展的需要紧密结合。

该项目不仅可以大大提高中国本土企业的自主创新能力，还可以通过重大关键技术的突破，带动和提升中国整个电子产业体系的技术水平和国际竞争力。该项目符合国家产业政策，按照国家基本建设程序实施。该项目的建设是可行的。