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瓦森纳协议 包括光刻!美国禁运6项关键技术

导语:近日,美国商务部工业安全局宣布,将根据《出口管理条例》在商务部管制清单中增加6项新兴技术。据了解,出口管制的新兴技术总数已达37种。美国商务部在官方网站发布的通知中写道:“此举是为了支持关键和新兴技术的国家战略。”“关键技术和新兴技术国家战略是保护美国国家安全,确保美国在军事、情报和经济事务中保持技术领先地位

近日,美国商务部工业安全局宣布,将根据《出口管理条例》在商务部管制清单中增加6项新兴技术。

据了解,出口管制的新兴技术总数已达37种。

美国商务部在官方网站发布的通知中写道:“此举是为了支持关键和新兴技术的国家战略。”

“关键技术和新兴技术国家战略是保护美国国家安全,确保美国在军事、情报和经济事务中保持技术领先地位的重要战略部署。”美国商务部长威尔伯·罗斯(Wilbur Ross)表示,“美国商务部已经对30多项新兴技术的出口实施了控制,我们将继续评估和确定未来需要控制的技术。”

投票赞成“在美国国家安全中发挥重要作用”的六项主要技术被公布

公告指出。最新的商业出口管制是根据2019年12月大会达成的《关于常规武器和两用货物及技术出口管制的瓦塞纳尔协定》实施的。在制定和实施对新兴技术的多边管制符合2018年出口管制改革法案的要求后,最终确定控制以下新技术和基础技术的出口将在美国国家安全中发挥至关重要的作用。

这次加入商业控制清单的六项新兴技术是:

-混合添加剂制造/计算机数控工具;

-特定的计算光刻软件;

生产5纳米成品晶片的一些技术;

-有限的数字法医分析工具;

-监控电信服务通信的某些软件

-亚轨道航天器

美国的六大出口管制技术与芯片制造中最重要的设备光刻机息息相关,尤其是目前的5nm芯片已经成为高端芯片时代的主流产品,EUV光刻机在半导体制造中的意义可想而知。

“用于制造极紫外掩模的计算光刻软件”涵盖了EUV光刻所需的特定软件,包括与三维效应、掩模阴影效应、照明方向效应、远距离眩光效应、邻近效应、抗蚀剂中的随机性效应和源掩模优化相关的软件,这是在晶片上制作优化的光致抗蚀剂图案所必需的。“生产5纳米成品芯片的技术”旨在应用于5纳米生产的晶片,包括切割、研磨和抛光直径为300毫米的硅晶片以满足某些标准所需的技术,以及将平整度和表面缺陷以及局部光散射最小化的技术。以上两类技术均受国家安全和反恐管制。

目前,世界上唯一能生产EUV光刻机的公司是荷兰的ASML,ASML最大的两个股东资本国际集团和贝莱德集团都是美国公司,他们制造EUV光刻机的许多高精度技术都由美国掌握。

美国商务部此举相当于直接封杀高端芯片的制造技术,谁被盯上就不用说了。目前,中国作为美国芯片产品的最大买家之一,受到出口管制的影响很大。

这是自2018年ECRA法案通过以来,国际清算银行实施的第四套新兴技术控制措施。在此之前,BIS公布了三份联邦文件,对导航空航空航天、生物技术、化学、电子、加密、地理空和海洋等领域的31项新兴技术进行了监管,其中大部分是在多边支持下实施的。其中包括出于化学/生物和反恐原因而受到管制的24种化学武器前体;

分立微波晶体管

操作软件的连续性

后量子密码术

水下传感器用作水听器

空中型发射平台

地理图像软件空

一次性生物培养箱

一般来说,受新规定影响最大的行业是航空空航空航天、生物技术、化学、电子、加密、地理空图像间和海洋行业。正如国际清算银行承诺的那样,新兴技术受到严格的定义,几乎所有新兴技术都受到多边监管。

需要注意的是,根据ECRA规定,商务部工业安全局从2020年8月27日开始就基础技术鉴定征求公众意见,公众咨询期将持续到2020年11月9日,也就是说,未来可能会有更多的新兴和关键技术列入出口管制清单。

中方回应:出口管制清单将适时发布!

但在这一公告未发布后,中国的《出口管制法》经过三审,于日前获得通过,新法将于今年12月1日生效。

法律规定,任何国家或者地区滥用出口管制措施,危及中国国家安全和利益的,中国可以根据实际情况对该国家或者地区采取措施。

周四,针对出口管制清单,商务部发言人高峰表示,实施出口管制是履行防扩散等国际义务的常见国际做法。自20世纪90年代末以来,为履行相关国际义务,中国先后制定了《管制化学品管理条例》、《核出口管制条例》、《核两用品及相关技术出口管制条例》等六项出口管制行政法规,形成了涵盖核、生物、化学、导弹和军工产品的出口管制法律体系。为了更好地履行相关国际义务,适应新形势下出口管制工作的需要,维护我国国家安全和利益,我们从2017年开始启动出口管制法的相关立法工作。在总结以往经验的基础上,借鉴国际通行做法,提升立法水平,制定《出口管制法》,引领出口管制工作,为相关工作的开展提供更有力的法律保障。

高峰表示:“我们将依法适时进一步完善和发布控制名单。”

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