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深圳 深圳清溢光电股份有限公司技术层面的相关风险

导语:11月13日公布了清一光电的获奖号,并在上海证券交易所科技创新板挂牌。其认购代码为787138,发行价格为8.78元/股。在线顶级订阅需要19万元的市值。你可以关注一下这只股票的认购信息,从这个公司的技术层面介绍相关风险。(a)技术替代的风险目前世界各地的平板显示、半导体、触控等行业基本上都是使用掩膜作为曝光、复制、量产的参考图案。无掩模光刻技术精度低,主要用于电路板行业。掩模光刻技术通常分为激光

11月13日公布了清一光电的获奖号,并在上海证券交易所科技创新板挂牌。其认购代码为787138,发行价格为8.78元/股。在线顶级订阅需要19万元的市值。你可以关注一下这只股票的认购信息,从这个公司的技术层面介绍相关风险。

(a)技术替代的风险

目前世界各地的平板显示、半导体、触控等行业基本上都是使用掩膜作为曝光、复制、量产的参考图案。无掩模光刻技术精度低,主要用于电路板行业。掩模光刻技术通常分为激光直写和电子束直写。激光直写法使用波长为193纳米、248纳米、365纳米、413纳米等的连续或脉冲激光源。,并将其整形收缩成200 ~ 500纳米的激光光斑。在掩模光致抗蚀剂上绘制电路图案之后,通过显影蚀刻获得电路图案。电子束直写使用小到纳米的电子束点在掩模光刻胶上绘制电路图案。曝光显影后,用湿法或干法刻蚀掩模板上的电子束胶,得到电路图形。激光直写法具有以下优点:1 .光刻速度可达数百至数千mm2 /min,明显快于电子束直写法;2.掩膜尺寸可以达到1700mm×2000mm,大尺寸掩膜可以提高下游厂商光刻工艺的曝光效率,同时大大降低下游厂商的生产成本。而激光直写制作的掩膜精度不如电子束直写制作的掩膜精度,电子束直写制作的图案精度达到纳米量级。但由于速度较慢,目前仅限于制作小尺寸的掩膜版。目前发行方主要采用激光直写制作口罩。随着科学研究的进步,不排除新的无掩模光刻技术会取代掩模行业原有的工艺技术,产生技术替代的风险。

(2)公司产品和技术在国际市场的竞争力不领先的风险

与国际竞争对手相比,国内口罩行业起步较晚。经过20多年的努力追赶,国内口罩产品与国际竞争对手在推出新产品上的时间差距逐渐缩短,产品性能上的差距越来越小。报告期内,高端口罩产品的营收分别占62.14%、59.89%、70.11%和73.21%,并逐渐增加,但公司的IC口罩和部分平板显示口罩公司的产品仍属于中端甚至低端产品。我国口罩市场需求量大,我们的产品在国内高端口罩中的市场份额低,明显低于国际竞争对手。作为中国最大和领先的口罩制造商之一,该公司在新产品取得重大突破并通过下游客户认证后,可能会遇到来自国际竞争对手的蓄意价格竞争。报告期内,公司的R&D投资率高于国际竞争对手。但由于国内口罩行业起步较晚,公司规模小于国际竞争对手,技术沉淀弱于国际竞争对手,公司存在现阶段产品和技术在国际市场竞争力不领先的风险。

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